仪器名称：超高真空多功能磁控溅射设备

英文名称：Ultra high vacuum multi-function magnetron sputtering equipment

所属单位：四川轻化工大学

原值：54.800000万元

产地国别：中国

启用日期：2013-12-20 00:00:00

主要技术指标：1. 基板加热器温度：室温-300℃±5℃，可加负偏压-50V－-800V。2. 基板自转速度 0-90 转/分，公转速度 0-90 转/分，可控可调。3. 基板可加热、可水冷、可旋转、可升降。4. 靶面到基片距离 48-90mm 可调，有调位显示。5. 尺寸为Ф50mm 的圆形平面磁控溅射永磁靶，靶头可调角度；可镀铁磁材料的磁控溅射靶 1 个，可镀普通靶材的磁控溅射靶 4 个；靶材尺寸Ф50mm，厚度为 4-6mm。6. 镀膜室极限真空：﹤10-5Pa7. 磁控溅射靶电源：射频源 500W、50Hz；直

主要功能：制备各种单层或多层的半导体膜、反应膜、绝缘膜、透明导电膜、高温超导膜等

操作流程/视频：

样品前处理注意事项：

预约信息：状态（正常）

主要学科领域：材料科学

运行状态：正常

参考收费标准：面议

安放地址：四川-自贡-自流井区四川理工学院汇南校区第二实验楼3082